Vortrag der Ringträger 2024 zur Entwicklungsgeschichte der High-NA-EUV-Lithographie
Peter Kürz (ZEISS SMT) und Michael Kösters (TRUMPF) erhielten am 13. Dezember 2024 den Werner-von-Siemens-Ring für die Entwicklung der High-NA-EUV-Lithographie und die industrielle Nutzbarmachung der EUV-Lithographie zur Produktion von Mikrochips. In ihrem Vortrag berichten Kürz und Kösters von Schwierigkeiten, Risiken und unvergesslichen Momenten auf dem langen Weg zum technologischen Durchbruch. Was es braucht: ein Team, eine Vision, Vertrauen und Durchhaltevermögen. Der Lohn: Superlative und ein Weltrekord!
Zu Beginn unserer Entwicklung sind wir mit sehr großem Optimismus gestartet und ich würde sagen, einem sehr unvollständigen Verständnis der technischen Herausforderung.
Peter Kürz (ZEISS SMT), Ringträger 2024
Die EUV-Lithographie – Michael Kösters (TRUMPF)
Ein komplexes dreidimensionales Gebilde aus Leiterbahnen: „nichts anderes“ sei ein heutiger Mikrochip, so Michael Kösters. Um diese Nanostrukturen herzustellen, braucht es extrem ultraviolettes (EUV) Licht. Und um dieses besondere Licht zu erzeugen, wurde bei TRUMPF der weltweit stärkste industrielle Pulslaser entwickelt. Das System ist circa 30 Tonnen schwer und besteht aus circa 450.000 Einzelteilen. Mit solchen Anlagen lassen sich heute mehr als 600 Watt EUV-Lichtleistungen erzeugen. Als Michael Kösters 2010 bei TRUMPF anfing, war man bei circa 10 Watt. „Das klingt jetzt alles nach einer sehr geradlinigen Erfolgsstory, aber so schön ist die Welt natürlich auch da nicht“, so Kösters. In seinem Teil des Vortrags zur Verleihung des 42. Werner-von-Siemens-Ring schildert der Preisträger, wie er das Projekt gemeinsam mit seinem Team und einem Netzwerk aus Partnern trotz allen Herausforderungen am Ende zu einem phänomenalen Erfolg führte.
Bilder: TRUMPF
Das optische System hinter „High-NA“ – Peter Kürz (ZEISS SMT)
Zunächst sähe es aus wie ein kleiner Schritt, so Peter Kürz, aber am Ende sei es einer mit großen Auswirkungen: Durch eine Veränderung des Öffnungswinkels der Optik lassen sich drei Mal mehr Transistoren auf die gleiche Fläche aufbringen – „ein erheblicher, positiver Impact“. Doch um diesen Impact zu erreichen, muss das optische System deutlich größer und komplexer werden. Das Beleuchtungssystem und die Projektionsoptik, die Peter Kürz gemeinsam mit seinem Team bei ZEISS SMT und mit dem Partner ASML entwickelte, besteht aus circa 65.000 Hochpräzisionsteilen und wiegt 18 Tonnen. Seit 25 Jahren beschäftigt sich Kürz mit der EUV-Technologie, „da gab es weder Designkonzepte noch technologische Grundlagen.“ Über die Jahrzehnte wuchs das Team dann von einer Handvoll auf 2000 Mitarbeitende an und gemeinsam genoss man den Lohn aller Mühen: „die unvergesslichen Tage, als die LKWs zuerst mit dem Beleuchtungssystem und dann mit der Projektionsoptik Richtung ASML gerollt sind.“
Bilder: ZEISS SMT
